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專利技術秘密撰寫與申報實踐

主講老師: 付亞榮 付亞榮

主講師資:付亞榮

課時安排: 1天/6小時
學習費用: 面議
課程預約: 隋老師 (微信同號)
課程簡介: 1. 在“十四五”規(guī)劃和2035年遠景目標綱要中對發(fā)明專利的要求; 2非正常申請專利行為的界定; 3中央企業(yè)知識產權工作高質量發(fā)展對專利的要求;
內訓課程分類: 綜合管理 | 人力資源 | 市場營銷 | 財務稅務 | 基層管理 | 中層管理 | 領導力 | 管理溝通 | 薪酬績效 | 企業(yè)文化 | 團隊管理 | 行政辦公 | 公司治理 | 股權激勵 | 生產管理 | 采購物流 | 項目管理 | 安全管理 | 質量管理 | 員工管理 | 班組管理 | 職業(yè)技能 | 互聯網+ | 新媒體 | TTT培訓 | 禮儀服務 | 商務談判 | 演講培訓 | 宏觀經濟 | 趨勢發(fā)展 | 金融資本 | 商業(yè)模式 | 戰(zhàn)略運營 | 法律風險 | 沙盤模擬 | 國企改革 | 鄉(xiāng)村振興 | 黨建培訓 | 保險培訓 | 銀行培訓 | 電信領域 | 房地產 | 國學智慧 | 心理學 | 情緒管理 | 時間管理 | 目標管理 | 客戶管理 | 店長培訓 | 新能源 | 數字化轉型 | 工業(yè)4.0 | 電力行業(yè) |
更新時間: 2023-09-01 10:36


1.國家專利政策

1.1. 在“十四五”規(guī)劃和2035年遠景目標綱要中對發(fā)明專利的要求

  1.2非正常申請專利行為的界定

  1.3中央企業(yè)知識產權工作高質量發(fā)展對專利的要求

2.專利布局頂層設計

  2.1頂層設計方法

  2.2頂層設計“干什么”

  2.3頂層設計“高端需求”

2.4頂層設計“標識”

2.5頂層設計“機遇”

3.專利挖掘

  3.1專利挖掘原則

  3.2專利挖掘角色分工

  3.3專利挖掘的誤區(qū)

  3.4專利素材來源

4.專利申請文本撰寫

   4.1背景技術撰寫技巧

   4.2發(fā)明內容撰寫技巧

   4.3有益技術效果撰寫技巧

   4.4說明書附圖

   4.5具體實施例撰寫技巧

   4.6權利要求書撰寫技巧

5.專利申報技巧

  5.1自主申報技巧

  5.2專利代理公司申報技巧

6.專利與技術秘密的關系

 
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